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管式高溫電爐該真空管式氣氛爐有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，主要應(yīng)用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火等 。

更新日期：2025-01-20

訪問(wèn)次數(shù)：1232

￥9500

高溫氣氛管式爐以硅碳棒為發(fā)熱元件；采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和30段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，能快速升降溫，爐管下方配有支架，有效防止?fàn)t管兩端高溫變形斷裂；可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕狻⒀趸?、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護(hù)燒結(jié)、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。

更新日期：2025-01-20

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￥11800

1400℃雙溫區(qū)管式氣氛爐以硅碳棒為發(fā)熱元件；雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)；高純氧化鋁纖維真空吸附次成型；高密度硅碳棒真空擠壓成型；剛玉管外徑為60、80mm。兩個(gè)溫區(qū)分別由兩個(gè)獨(dú)立的溫控系統(tǒng)來(lái)控制且都為PID30段程序化控溫。是奧菲達(dá)儀器自行研制開發(fā)的高性能高節(jié)能的新型管式電爐，產(chǎn)品具有合理的結(jié)構(gòu)，升溫快，操作簡(jiǎn)便，密封性能好，可預(yù)抽真空，真空能保持較長(zhǎng)時(shí)間，也可以保持微正壓。

更新日期：2025-01-20

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￥13500

小型立式管式爐是河南奧菲達(dá)儀器專為針對(duì)粉末表面沉積的CVD實(shí)驗(yàn)開發(fā)而成的，采用高純氧化鋁纖維制爐膛，爐體結(jié)構(gòu)為保溫層兩半開啟式,集控制系統(tǒng)與爐膛為體，可在垂直和水平等多個(gè)工位下工作。該爐爐管可旋轉(zhuǎn)各個(gè)角度，操作簡(jiǎn)單、控溫度高、保溫效果好、爐膛溫度均勻性高、可通氣氛抽真空等特點(diǎn)。

更新日期：2025-01-20

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￥9800

迷你型真空氣氛管式爐采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，爐膛材料采用高純氧化鋁，殼體兩邊安裝有鋁制散熱器使得法蘭溫度小于80℃，內(nèi)爐膛表面涂有1750℃進(jìn)口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐膛潔凈度。 適用范圍：主要應(yīng)用于院校實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴(kuò)散焊接以及真空或氣氛

更新日期：2025-01-20

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￥8900

1400℃真空管式爐技術(shù)參數(shù)： 用途概述：管式爐采技術(shù)，有單管、臥式、可開啟式、單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等多種管式爐型。具有安全可靠、操作簡(jiǎn)單、控溫度高、保溫效果好、溫度范圍大、溫場(chǎng)均勻性高、溫區(qū)多，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、真空退火用的理想產(chǎn)品. 為實(shí)驗(yàn)單位提供具有真空、可控氣氛及高溫的實(shí)驗(yàn)條件下做元素分析、物理測(cè)定、等加熱實(shí)驗(yàn)。并應(yīng)用在半導(dǎo)體、納米、碳纖維

更新日期：2025-01-20

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￥10800